半导体晶圆清洗-半导体晶圆清洗-东方金荣超声

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    2023-8-7

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超声波清洗原理

超声波是一种频率超出人类听觉范围20 khz以上的声波。超声波的传播要依靠弹性介质,其传播时,使弹性介质中的粒子振荡,并通过介质按超声波的传播方向传递能量,这种波可分为纵向波和横向波。在固体内,两者都可以传送,而在气体和液体内,只有纵向波可以传送。超声波能够引起质点振动,质点振动的加速度与超声频率的平方成正比。因此,几十千赫兹的超声会产生---的作用力,强超声波在液体中传播时,由于非线性作用,会产生声空化。在空化气泡突然闭合时发出的冲击波可在其周围产生上千个---压力,对污层的直接反复冲击,半导体晶圆清洗,一方面破坏污物与清洗件表面的吸附,另一方面也会引起污物层的破坏而脱离清洗件表面并使它们分散到清洗液中。气泡的振动也能对固体表面进行擦洗。气泡还能“钻入”裂缝中做振动,使污物脱落。对于有油脂性污物,由于超声空化作用,两种液体在界面迅速分散而乳化,当固体粒子被油污裹着而粘附在清洗件表面时,油被乳化,固体粒子即脱落。空化气泡在振动过程中会使液体本身产生环流,即所谓声流。他可使振动气泡表面存在---的速度梯度和粘滞应力,促使清洗件表面污物的破坏和脱落,超声空化在固体和液体表面上所产生的高速微射流能够除去或削弱边界污层,腐蚀固体表面,增加搅拌作用,加速可溶性污物的溶解,强化化学清洗剂的清洗作用。此外,超声振动在清洗液中引起质点很大的振动速度和加速度,亦使清洗件表面的污物受到频繁而激烈的冲击。









超声波清洗历史发展

技术早出现于20世纪30年代早期,当时,位于美国新泽西州的美国无线电公司的一个实验室中的---尝---自制的简陋超声波清洗系统清洗某些物体,但试验未获成功。在此基础上,超声波清洗技术在20世纪50年代有了很大的发展,当时使用的超声波工作频率在20~ 40 khz之间。该范围内的超声波被应用在数千种不同的工作场合下,其中许多是别的清洗手段不能---发挥作用的场合。超声波可以对工件施加非常---的能量,半导体晶圆清洗公司,尤其适用于清除牢固地附着在基底上的污垢。然而在某些情况下,超声波---的能量也会损伤粘有污垢而性质脆弱的基底材料。在过去的十几年中,半导体晶圆清洗,超声波领域中出现了一些技术---,提高了清除敏感基底上的污物的安全系数。在此期间,超声波技术,---是中高频超声波清洗技术有了新的发展,并成为行业的亮点。近年来,半导体晶圆清洗多少钱,人们发现用兆声波(根据超声波的频率不同,把40 khz及其以下的称为常规或低频超声波,把1 000 khz以上的称为高频超声波,又称兆频超声波,简称兆声波)清洗可以去除掉半导体材料表面上的超细污垢微粒,并且不会损伤基底材料的表面。目前这项技术已经得到了很快的普及。









超声波清洗流程

一般来说,清洗的工艺流程依被清洗物体清洗的难易程度及清洗数量而决定。主要清洗流程如下:1)热浸洗或喷洗:目的是将工件上的污染物软化、分离、溶解,并减轻下道清洗工序的负荷。2)超声波清洗:利用超声波产生的---空化作用及振动将工件表面的污垢剥离脱落,同时还可将油脂性的污物分解、乳化。3)冷漂洗:利用流动的净水将已脱落但尚浮在工件表面上污物冲洗干净。4)超声波漂洗:溶剂为干净的清水,工件浸入后,利用超声波将浮在工件各边、角及孔隙处的污物清洗干净。5)热净水及冷净水漂洗:进一步去除悬附在工件表面上的污物微粒。6)热风烘干:利用一定的温度和风速,使零件表面快速干燥。









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