超声波是一种频率超出人类听觉范围20 khz以上的声波。超声波的传播要依靠弹性介质，其传播时，使弹性介质中的粒子振荡，并通过介质按超声波的传播方向传递能量，这种波可分为纵向波和横向波。在固体内，两者都可以传送，而在气体和液体内，只有纵向波可以传送。超声波能够引起质点振动，质点振动的加速度与超声频率的平方成正比。因此，几十千赫兹的超声会产生---的作用力，强超声波在液体中传播时，由于非线性作用，会产生声空化。在空化气泡突然闭合时发出的冲击波可在其周围产生上千个---压力，对污层的直接反复冲击，一方面破坏污物与清洗件表面的吸附，另一方面也会引起污物层的破坏而脱离清洗件表面并使它们分散到清洗液中。气泡的振动也能对固体表面进行擦洗。气泡还能“钻入”裂缝中做振动，使污物脱落。对于有油脂性污物，由于超声空化作用，两种液体在界面迅速分散而乳化，当固体粒子被油污裹着而粘附在清洗件表面时，油被乳化，固体粒子即脱落。空化气泡在振动过程中会使液体本身产生环流，即所谓声流。他可使振动气泡表面存在---的速度梯度和粘滞应力，促使清洗件表面污物的破坏和脱落，半导体晶圆清洗多少钱，超声空化在固体和液体表面上所产生的高速微射流能够除去或削弱边界污层，腐蚀固体表面，增加搅拌作用，加速可溶性污物的溶解，强化化学清洗剂的清洗作用。此外，超声振动在清洗液中引起质点很大的振动速度和加速度，亦使清洗件表面的污物受到频繁而激烈的冲击。
清洗介质：采用超声波清洗，一般有两类清洗剂即化学溶剂和水基清洗剂。清洗介质的化学作用可以加速超声波清洗效果，超声波清洗是物理作用，半导体晶圆清洗报价，两种作用相结合，依对物件进行充分、的清洗。功率密度：超声波的功率密度越高，天津半导体晶圆清洗，空化效果越强，速度越快，清洗效果越好，但对于精密的表面光洁度甚高的物件，采用长时间的高功率密度清洗会对物件表面产生空化、腐蚀。超声频率：适用于工件粗、脏、初洗，频率高则超声波方向性强，适合于精细的物件清洗。清洗高温：一般来说，超声波在30℃~40℃时的空化效果，清洗剂也不是温度越高，作用越---，半导体晶圆清洗，有可能会高温失效，通常超声波在超过85°c时，清洗效果已变差。所以实际应用超声波清洗时，采用50°c~70°c的工作温度。
随着应用范围的扩大，超声波清洗技术也有了新的发展。传统的超声波清洗设备由于自动化程度不高而难以---零件清洗的均匀性，近年来逐渐出现了自动化程度高、灵活性强的自动化超声波清洗设备。不但实现了超声波清洗的自动化控制和批量作业，还稳定了清洗工艺、提高了清洗。这类超声波清洗设备将超声波清洗和化学清洗、漂洗、脱水、烘干等工艺结合，因而有非常高的清洗效率。在传动、烘干、清洗方面通常使用plc控制，实现了清洗过程的全自动化。
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