兆声波清洗不仅保存了超声波清洗的优点，而且克服了它的不足。在清洗时，由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，晶元清洗，大瞬时速度可达到30cm/s。因此，形成不了超声波清洗那样的气泡，而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面，使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。兆声波清洗抛光片可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子，起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。兆声波清洗方法已成为抛光片清洗的一种有效方法。
兆声清洗是利用兆赫兹级别的频超声波能量去进行基材表面亚微米级颗粒的去除以及化学反应。相比于低频超声波空化效应，兆声波空化效应可清楚更小的颗粒并且大幅降低对基材的损伤。东方金荣提供多种类型的兆声系统以用于cmp化学机械抛光、键合前清洗、掩膜清洗、显影、去胶、金属剥离、湿法刻蚀等多种领域。 siansonic（东方金荣）喷淋式兆声清洗喷头的特点及优势单点喷淋式兆声清洗，晶元清洗公司，相比传统槽式清洗，可解决清洗液二次污染问题。极低的超声空化效应，不会对器件表面造成损伤清洗精度，可去除物体表面0.2微米的污渍颗粒非金属腐材质，适应各种酸碱及石英或蓝宝石匹配层技术，无杂质脱落到器件上的风险的换能器贴合技术，更高的稳定性和耐久性
第三代半导体技术的兆声发生器，实现数字化高频大功率驱动。
技术早出现于20世纪30年代早期，当时，位于美国新泽西州的美国无线电公司的一个实验室中的---尝---自制的简陋超声波清洗系统清洗某些物体，但试验未获成功。在此基础上，晶元清洗多少钱，超声波清洗技术在20世纪50年代有了很大的发展，当时使用的超声波工作频率在20～ 40 khz之间。该范围内的超声波被应用在数千种不同的工作场合下，其中许多是别的清洗手段不能---发挥作用的场合。超声波可以对工件施加非常---的能量，尤其适用于清除牢固地附着在基底上的污垢。然而在某些情况下，超声波---的能量也会损伤粘有污垢而性质脆弱的基底材料。在过去的十几年中，福建晶元清洗，超声波领域中出现了一些技术---，提高了清除敏感基底上的污物的安全系数。在此期间，超声波技术，---是中高频超声波清洗技术有了新的发展，并成为行业的亮点。近年来，人们发现用兆声波(根据超声波的频率不同，把40 khz及其以下的称为常规或低频超声波，把1 000 khz以上的称为高频超声波，又称兆频超声波，简称兆声波)清洗可以去除掉半导体材料表面上的超细污垢微粒，并且不会损伤基底材料的表面。目前这项技术已经得到了很快的普及。
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